placeholder image to represent content

Chemical Vapor Deposition

Quiz by Joan Josep Carvajal

Our brand new solo games combine with your quiz, on the same screen

Correct quiz answers unlock more play!

New Quizalize solo game modes
10 questions
Show answers
  • Q1
    Un dels principals avantatges de les tècniques de CVD és que els films produits per aquesta tècnica:
    tenen un gruix uniforme
    es poden dipositar sobre substrats amb formes complexes
    totes les respostes són correctes
    es poden dipositar sobre les superfícies interiors, laterals o inferiors del substrat
    45s
  • Q2
    Un procés de CVD involucra:
    la generació de subproductes, i la seva evacuació, juntament amb els gasos precursors que no han reaccionat
    la deposició d’una capa prima sobre la superfície del substrat
    un conjunt de reaccions químiques que tenen lloc a sobre o prop de la superfície calenta del substrat a recobrir
    totes les respostes són correctes
    60s
  • Q3
    El fet que els films produïts per CVD es dipositin a temperatura elevada:
    restringeix el tipus de substrats sobre els que poder ser dipositats
    totes les respostes són correctes
    pot generar que les propietats elèctriques dels films no siguin homogènies
    genera films de gran qualitat i sense tensions estructurals sobre els substrats
    45s
  • Q4
    Les propietats dels precursors constitueixen un inconvenient per les tècniques de CVD perquè:
    són explosius
    totes les anteriors
    poden ser molt tòxics
    cap de les respostes és correcta
    45s
  • Q5
    Quina de les següents tècniques NO deriva del CVD:
    organometallic vapor phase epitaxy
    metal-organic chemical vapor deposition
    hydride vapor phase epitaxy
    molecular beam epitaxy
    45s
  • Q6
    La tècnica de CVD assistida per plasma permet:
    agregar els precursors de CVD en fase gas en molècules reactives més grans
    les altres respostes són vàlides
    incrementar la temperatura del substrat per generar films amb més qualitat estructural
    dipositar capes primes a velocitats més elevades i temperatures més baixes
    45s
  • Q7
    Els processos de transport de massa i les reaccions químiques es consideren punts clau en els processos de CVD perquè:
    afecten a la morfologia del film crescut
    poden limitar la velocitat de deposició en els sistemes de CVD
    totes les respostes són vàlides
    afecten la composició del film
    45s
  • Q8
    Les tècniques de CVD s’utilitzen en:
    la industria de les comunicacions
    la industria alimentària
    la industria de l’automòbil
    cap resposta és correcta
    45s
  • Q9
    Les tècniques de CVD s’utilitzen per:
    deposició de dispositius de semiconductor
    purificació de metalls
    deposició de films resistents a la corrosió
    totes les respostes són correctes
    45s
  • Q10
    L’ús de les tècniques de CVD en nanotecnologia permeten:
    dipositar fils quàntics
    dipositar punts quàntics
    dipositar pous quàntics
    totes les respostes són correctes
    45s

Teachers give this quiz to your class