
Chemical Vapor Deposition
Quiz by Joan Josep Carvajal
Feel free to use or edit a copy
includes Teacher and Student dashboards
Measure skillsfrom any curriculum
Measure skills
from any curriculum
Tag the questions with any skills you have. Your dashboard will track each student's mastery of each skill.
With a free account, teachers can
- edit the questions
- save a copy for later
- start a class game
- automatically assign follow-up activities based on students’ scores
- assign as homework
- share a link with colleagues
- print as a bubble sheet
10 questions
Show answers
- Q1Un dels principals avantatges de les tècniques de CVD és que els films produits per aquesta tècnica:tenen un gruix uniformees poden dipositar sobre substrats amb formes complexestotes les respostes són correcteses poden dipositar sobre les superfícies interiors, laterals o inferiors del substrat45s
- Q2Un procés de CVD involucra:la generació de subproductes, i la seva evacuació, juntament amb els gasos precursors que no han reaccionatla deposició d’una capa prima sobre la superfície del substratun conjunt de reaccions químiques que tenen lloc a sobre o prop de la superfície calenta del substrat a recobrirtotes les respostes són correctes60s
- Q3El fet que els films produïts per CVD es dipositin a temperatura elevada:restringeix el tipus de substrats sobre els que poder ser dipositatstotes les respostes són correctespot generar que les propietats elèctriques dels films no siguin homogèniesgenera films de gran qualitat i sense tensions estructurals sobre els substrats45s
- Q4Les propietats dels precursors constitueixen un inconvenient per les tècniques de CVD perquè:són explosiustotes les anteriorspoden ser molt tòxicscap de les respostes és correcta45s
- Q5Quina de les següents tècniques NO deriva del CVD:organometallic vapor phase epitaxymetal-organic chemical vapor depositionhydride vapor phase epitaxymolecular beam epitaxy45s
- Q6La tècnica de CVD assistida per plasma permet:agregar els precursors de CVD en fase gas en molècules reactives més gransles altres respostes són vàlidesincrementar la temperatura del substrat per generar films amb més qualitat estructuraldipositar capes primes a velocitats més elevades i temperatures més baixes45s
- Q7Els processos de transport de massa i les reaccions químiques es consideren punts clau en els processos de CVD perquè:afecten a la morfologia del film crescutpoden limitar la velocitat de deposició en els sistemes de CVDtotes les respostes són vàlidesafecten la composició del film45s
- Q8Les tècniques de CVD s’utilitzen en:la industria de les comunicacionsla industria alimentàriala industria de l’automòbilcap resposta és correcta45s
- Q9Les tècniques de CVD s’utilitzen per:deposició de dispositius de semiconductorpurificació de metallsdeposició de films resistents a la corrosiótotes les respostes són correctes45s
- Q10L’ús de les tècniques de CVD en nanotecnologia permeten:dipositar fils quànticsdipositar punts quànticsdipositar pous quànticstotes les respostes són correctes45s